Piawaian pengeluaran pemprosesan pijar Tantalum

Gred:R05200,R05400,Ta1,Ta10W,Ta2.5W

Standard: ASTM B708-05

Ketulenan: Lebih besar daripada atau sama dengan 99.95

Ketumpatan: Lebih besar daripada atau sama dengan 16.6g/cm3

Takat lebur: 2996 darjah

Takat didih: 5425 darjah

Keadaan penghantaran: keadaan pemprosesan memalsukan

Julat saiz: mengikut pemprosesan lukisan

Jenis pemprosesan: Kemasan

Toleransi: 0.02

Proses pengeluaran: bahan mentah - pencairan vakum rasuk elektron - penempaan - pusat pemesinan / pemesinan CNC
Penggunaan bahan tantalum: Bahagian mesin Tantalum mempunyai satu siri sifat yang sangat baik seperti takat lebur yang tinggi, tekanan wap yang rendah, prestasi pemesinan loceng yang baik, kestabilan kimia yang tinggi, rintangan yang tinggi terhadap kakisan logam cecair, dan pemalar dielektrik tinggi bagi filem oksida permukaan. Oleh itu, tantalum mempunyai aplikasi penting dalam elektronik, metalurgi, keluli, industri kimia, karbida bersimen, tenaga atom, teknologi superkonduktor, elektronik automotif, penyelidikan saintifik dan bidang berteknologi tinggi yang lain.
Tantalum ialah unsur logam, nombor atom 73, simbol kimia Ta, unsur yang sepadan dengan monomer untuk logam kelabu keluli, mempunyai rintangan kakisan yang sangat tinggi, baik dalam keadaan sejuk dan panas, asid hidroklorik, asid nitrik pekat dan " aqua regia" tidak reaktif. Tantalum terutamanya terdapat dalam tantalite, bersimbiotik dengan niobium. Kekerasan Tantalum adalah sederhana dan mulur, dan boleh ditarik ke dalam jenis filamen halus kerajang nipis. Pekali pengembangan habanya sangat kecil. Tantalum mempunyai sifat yang sangat kimia dan sangat tahan terhadap kakisan. Boleh digunakan untuk mengeluarkan bekas penyejatan, dsb., juga boleh dibuat menjadi elektrod tiub elektronik, penerus, kapasitor elektrolitik. Dari segi perubatan ia digunakan untuk membuat kepingan nipis atau wayar halus untuk membaiki tisu yang rosak. Walaupun tantalum sangat tahan terhadap kakisan, rintangan kakisannya adalah disebabkan oleh penjanaan filem pelindung tantalum pentoksida (TaO) yang stabil di permukaan.